超纯水：芯片行业的纯度之战

       制程越先进，对水的依赖越甚，晶圆表面哪怕附着1微米的颗粒，或是水中含有万亿分之一级的钠离子，都可能让整批芯片报废，这就是超纯水的用武之地，它在清洗、蚀刻、光刻等核心工序中，扮演着重要角色。

       超纯水的严苛程度超乎想象，90nm制程要经历90次清洗，到65nm制程就增至130次左右，每一次都离不开绝对纯净的水源。很难想象有些生产线，每片晶圆耗水数吨，其中超纯水占比超九成。

       要达到这种纯度，自来水得闯过十几道关。多介质过滤先筛掉泥沙，活性炭吸附余氯，软化器去除钙镁离子防结垢，这三步预处理是基础。核心在反渗透系统，两级RO膜能除掉98% 以上的离子，优普纯水设备能把水提纯，加上紫外线分解有机物，抛光混床把离子降到痕量级，最后用超滤收尾，产出负责芯片半导体要求的纯水。

       如今超纯水技术正朝绿色化迈进，EDI模块耗电量比传统设备降低 40%，浓水回用率能到75%，在芯片自主可控的浪潮中，这股“纯净力量”不仅破解了水资源瓶颈，更在高端制造的赛道上筑牢了根基。